We characterized the films through RHEED and AFM and found the buffer layer reduced the mismatch and improved the quality of ZnO films greatly.
英
美
释义
通过室温光致发光(PL)谱的测试分析,发现L-MBE生长过程中氧压对ZnO薄膜的结构缺陷浓度有很大影响。
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