This article describes thin films depositi on mechanism by CVD method, and applied characteristic of these films in ULSI.
英
美
释义
介绍了在超大规模集成电路制造工艺中,用化学气相(CVD)方法淀积各种薄膜的反应机理和特性,及这些薄膜在器件制造工艺中的应用。
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