The RBR control of CMP process adjusts its recipe primarily relying on the measurement of the post-polishing parameters.
英
美
释义
CMP工艺中的RBR控制是利用CMP工艺后检测获得的抛光质量数据来调整下一片硅片抛光的输入工艺参数的方法实现的。
把海词放在桌面上,查词最方便
触屏版
|
电脑版
©2003 - 2024 海词词典(Dict.cn)
立即下载