OPC (Optical Proximity Correction) has developed to be a part of EDA framework, which is primarily used to increase the achievable resolution and pattern transfer fidelity.
英
美
释义
光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction,OPC)已成为半导体制造不可缺少的技术,同时发展为电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)框架中的重要组成部分。
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