Hence, we deposited 7.5nm and 15nm LT-AlN as buffer layers on two samples, trying to make improvement on lattice quality.
英
美
释义
因此,我们将两个试片分别镀上7.;5奈米及15奈米厚度的氮化铝作为缓冲层,看看是否能对于晶体品质上有实质上的帮助。
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