For VLSI, a plane surface may be approximated by depositing the interlevel dielectric by bias-sputter deposition (see Section 9. 2. 4) or by using planarization.
英
美
释义
对于超大规模集成电路的平面状表面;可以用偏置溅射淀积法的层间介质淀积(见9.;2
把海词放在桌面上,查词最方便
触屏版
|
电脑版
©2003 - 2025 海词词典(Dict.cn)
立即下载